離散化過程の変更・追加(ステアリング)について

 

離散化過程の変更・追加・削除（ステアリング）の操作方法について説明します。

離散化過程のステアリングには主に

①       離散式のステアリング

②       離散式の処理命令のステアリング

の2つが挙げられます。

 

①     離散式のステアリング

離散化過程のオブジェクトを作成するところから説明を開始します。

CPDEPrcDiscメニューからform new processを選択します。


 

 


離散化過程を見るために”Sym61.Disc”オブジェクトがsplitされます。


 

 


Disc.1のメニューから(desc up wind 1st)を選択します。Eq.1オブジェクトの数式を離散化する命令がDisc.1に割り当てられ、Eq.2には数式の処理結果が格納されます。


 

 


Eq.2は(splitして確認)


 

 


ここでEq.2の離散式を変更して次の処理に進むことができます。

Eq.2において、左辺第2項の離散精度を2次から4次へ数式をステアリングします。

数式のステアリング方法は基本的に偏微分方程式入力と同様ですので

●     こちらを参照してコツをつかんで下さい。

本例では精度を変更するという例を示したが、つまりユーザは数式を自由に変更することができるということである。精度変更はステアリングの一例である。


 

 


”Sym61.Disc.2”においてmap to fit posを選択する。

”Sym61.Disc.3”においてform eqtを選択する。

 


 

 


Eq.4を確認する(splitする)。ステアリングが反映された数式ができあがっていることが確認できる。


 

 

 

 


②     離散式の処理命令のステアリング

前例のEq.4を見て、拡散項だけでなく移流項も加えたいと考えた場合の操作例を示す。

対処方法は2つある。

I.                 Eq.4に移流項を加えて、離散プロセスもあらたに追加する方法

II.              Eq.1を変更しもう一度従来の過程を踏む方法

 

 

Ⅰの方法

Eq.4を以下のようにステアリングする。


 

 


CPDEPrcDiscメニューadd processを選択する。


 

 

 

 


新たに追加されたDiscへdesc up wind 1st を選択する。


 

 

 


Sym61.DiscEqを確認する。


 

 


計算式の空間を表す添え字が整っていない(i+1/2,i-1/2)のでもう一度あたらしい処理プロセス(オブジェクト)を追加する。追加する前にオブジェクトの名称を変更(change name)する。

Sym61.Disc →　Sym61.Disc.New1

Sym61.DiscEq　→　Sym61.DiscEq.New1

CPDEProcDiscメニューから再びadd processを選択する。


 

 

 


新たに追加されたDiscにmap to fit posを割り当てる。


 

 


DiscEqを確認する。移流項が追加された。


 

 

 

 

 


Ⅱの方法

Disc.Eq.1に移流項を追加する。


 

 


再び各Discに処理を割り当てる。

Disc.1　→　desc up wind 1st

Disc.2　→　map to fit pos

Disc.3　→　form eqt


 

 

 

 


Eq.4を確認する。移流項が追加された。