【成】電子ビーム(EB)蒸着装置《解放設備》
| 型式 | JTR-5010RF-S ＊カスタム品（2003年導入） |
| メーカー | JEOL |
| 主な仕様 | ・EB銃（JEOL製） ・水晶振動子式膜厚計付き ・基板回転機構付き ・蒸着材料：Al2O3, MgF2, Si, SiO2, Ta2O5, TiO2, Ti3O5, Y2O3, ZnO ・蒸着材料：Sb2S3, SiO, ZnS, ZrO2 ・ハースライナー：Cu, C, Mo, グラファイト ・排気系： RP, DP ・真空計： ピラニー, ペニング |
| 実績 | ■Si 斜め針状厚膜 （光学異方性，偏光分離素子） ■Ta2O5, Ti3O5, Y2O3; MgF2, SiO2 ■Cu, Fe; Al, Ni |
| 装置管理 | 依田教員、大野技術職員 |
| 装置利用 | 学科〇/学部〇/学外× ＊成膜サポートしますので，ご相談ください →Contact |
