【成】DCパルススパッタ装置
| 型式 | 多元スパッタ装置 （2011年導入） |
| メーカー | 富士R&D，ドイツFEP |
| 主な仕様 | ・基板対向式デユアルパルススパッタ源 独FEP製 DRM400 ・ターゲット： Si，Ti ・ガス： Ar，O2，N2 ・スパッタ制御モード： 遷移領域，反応性領域，金属領域 ・DCパルス印加方式： ユニポーラ，バイポーラ ・モニタリング方式： プラズマインピーダンス(Si)，プラズマ発光分光(Ti) ・基板のプラズマクリーニング ＠ロードロック室 |
| 実績 | Si，SiO2，Si3N4，SiOx，SiNx，SiOxNy；Ti，TiO2，TiOx，TiN ■SiO2 厚膜 （厚さ3µｍ，高速な成膜レート2nm/s） ■SiO2/Si3N4 多層膜ミラー （交互4ペア，700℃耐熱性あり！） ■SiOxNy 厚膜＆屈折率制御 （厚さ3µｍ，成膜レート1nm/s，n=1.45~1.52＠λ=1.55μm） ■SiOx ARコーティング ■TiO2/SiO2 ダイクロイックミラー ■TiN ハードコーティング ■TiOx NDフィルタ （フラットな波長特性） |
| 利用申請先 | （大学利用の場合）依田教員（装置管理者）→Contact （企業利用の場合）(一社)光融合技術協会 にて実験サポート担当します |
■関連の研究発表
- 佐々木発輝, 鳴瀬皓之, 依田秀彦, 大谷毅, 田中一郎, “DCパルススパッタによるa-SiOxNy成膜とその屈折率制御,” 第10回電気学会東京支部栃木・群馬支所合同研究発表会, ETT-20-77, 2020年3月.
- 漆原陸, 大谷毅, 依田秀彦, “反応性スパッタ法による膜質制御と光学素子への応用,” 大学コンソーシアムとちぎ第15回学生＆企業研究発表会, 4-12, 2018年12月.
- 鳴瀬皓之, 大谷毅, 依田秀彦, “多層膜と微細周期パターンによる干渉機能を用いた大面積発色素子の試作,” 大学コンソーシアムとちぎ第15回学生＆企業研究発表会, P-5, 2018年12月.
- 漆原陸, 小池俊輔, 依田秀彦, “耐熱性多層膜ミラーの作製とEOチューナブル波長フィルタへの適用,” 第8回電気学会東京支部栃木・群馬支所合同研究発表会, ETT-18-97, 2018年3月.
- 赤沼啓伍, 高野周作, 依田秀彦, “Si細線導波路用ダウンテーパ型スポットサイズ変換器作製のための上部クラッド再形成,” 第8回電気学会東京支部栃木・群馬支所合同研究発表会, ETT-18-96, 2018年3月.
